Vapor Chamber Technology pada Sapphire

Written By Vapor Voyager Saputra on 19 April 2011 | Selasa, April 19, 2011

Sapphire adalah vendor pertama yang menggunakan teknologi Vapor Chamber pada discrete graphic card. Sebelumnya teknologi cooler ini dipakai industri pesawat terbang dan server kelas high-end untuk mendapatkan efisiensi system cooling dengan compact solution yang tidak makan tempat. Sapphire Vapor-X cooler dikenalkan pertama kali di tahun 2007 pada HD 3870 ATOMIC Edition yang sangat limited, lalu diteruskan dengan TOXIC HD 3870 dan HD 4870 series.

Bagaimana cara kerja teknologi Vapor Chamber?

1. Panas kontak dengan permukaan Vapor
2. Zat cair yang langsung menguap karena tekanan yang extreme karena panas.
3. Uap bergerak ke condensator system
4. Di sini uap kontak dengan cooling dan didinginkan
5. Yang sudah dingin tadi diserap oleh system Transportation Cappillary Action
6. Recycle kembali ke phase 1

Spoiler for Modul yang kontak dengan base cooling dizoom dengan microscope::

Vapor module ini menempel dengan kontak HS. Vapor chamber tentu jauh lebih efisien daripada flat base heatsink karena fungsinya yang juga mirip sebagai heat-pipe. Ukuran kompak Vapor juga menguntungkan desain cooling VGA agar tampak cakep, karena vapor tipis itu sudah berfungsi layaknya heat-pipe.

Hybrid Vapor-X and heatsink cooling on TOXIC series
Teknologi Vapor-X yang mirip mini heatpipe system ini masih bisa dikombinasikan dengan real heatpipe. Seperti pada seri Toxic dari Sapphire, kita bisa melihat pada gambar di bawah ini. Skemanya adalah Vapor chamber, lalu HS dengan heatpipe, dan cooling fan. Diharapkan temperature saat load dapat semakin ditekan dengan Vapor+Heatpipe.

Spoiler for Vapor:

Bedah Sapphire HD4870 1GB Vapor-X

Spoiler for HD4890:

Gambar adalah GPU Sapphire HD4870 1GB Vapor-X (750/900). Di GPU yang akan gwe bedah dan intip Vapor-Xnya ini adalah reference stock clock ATI, hanya board dan cooling system made by Sapphire.